Rapidus'un aktardığı bilgiye göre, Japonya'nın yarı iletken devlerinden Rapidus, Hokkaido'daki Chitose tesisine ASML'nin gelişmiş Twinscan NXE:3800E EUV litografi sistemini kurarak önemli bir hamle yaptı. Şirket, bu teknolojiyle 2024'te 2nm prototip üretime başlamayı, 2027'de ise ticari üretime geçmeyi hedefliyor.
Rapidus, 2nm Yonga Üretimi İçin Harekete Geçti
Rapidus, Japonya'nın ilk EUV tabanlı üretim aracı olan ASML'nin gelişmiş Twinscan NXE:3800E litografi sistemini Hokkaido'daki tesisine kuruyor. 71 ton ağırlığında ve 3,4 metre yüksekliğindeki bu sistem, 2nm ve daha ileri teknolojilerde yonga üretimi için tasarlandı ve dört aşamada monte edilecek. Şirket, ay sonuna kadar kurulumunu tamamlayarak Japonya'nın yarı iletken sektöründe yeni bir dönemi başlatmayı hedefliyor.
Rapidus'un IIM-1 tesisi ise Nisan 2025'te pilot üretime geçecek. Bu pilot hat, üretim sürecinde hata oranlarını azaltarak, tüm aşamaları optimize eden tek bir yonga işleme sistemiyle operasyonlarını geliştirecek.
Japonya, GAA Transistör Teknolojisiyle Sahaya İniyor
Rapidus, IBM ile iş birliği yaparak gate-all-around (GAA) transistörlere dayalı 2nm işlem teknolojisini geliştirmeye odaklandı. Şirket, 2027’de 2nm sınıfı yarı iletkenlerin seri üretimine başlamayı planlıyor. Ancak bu hedef, Intel ve TSMC'nin ticari üretime geçiş tarihlerinden 1,5-2 yıl geride kalacak. Yine de bu adım, Japon yarı iletken sektöründe büyük bir ilerleme olarak değerlendiriliyor.
Japonya, uzun süredir çip üretiminde geride kalmasına rağmen, 2022’de Denso, Kioxia, Sony, Toyota ve SoftBank gibi devlerin desteğiyle Rapidus’u kurarak 2nm ve ötesi gelişmiş çiplerin üretimi için iddialı bir hedef belirledi. Şirketin, Tayvan, ABD ve Güney Kore gibi güçlü rakiplerle rekabet edebilme potansiyeli ise merak konusu olmaya devam ediyor.
